172nm光刻及相關(guān)半導(dǎo)體加工工藝(Lithography Related)
獨(dú)特的172納米波長，新型平面微腔陣列光源技術(shù)兼具高功率，以及超乎尋常的均勻性和多功能性，高效能且緊湊的模塊化設(shè)計(jì)，這些革命性的實(shí)現(xiàn)都由引入π2-CYGNI系列真空紫外光處理系統(tǒng)開始。不堵的勻膠機(jī)，不易堵、好清洗，采用四重防堵技術(shù)省去使用中頻繁拆洗和清理困①電機(jī)內(nèi)置廢液罐，確保電機(jī)壽命②可拆卸式勻膠機(jī)腔體，便于清洗③外置集液罐和排液管④樣品夾具采用分離式防堵設(shè)計(jì)。
