172nm光刻及相關半導體加工工藝(Lithography Related)
主要特性
×
172nm波長光刻和對準系統
高精度光刻--實現如此簡單 使用簡潔的設計和簡約的方法，α -line重新定義了的手動對準系統的 性能期望和價格范圍。利用CygnusPhotonic先進的π-Photon 172nm 光源，α -line簡化了傳統的高分辨率光刻，并引入了現有對準系統不易實現的新處理能力。
